Publikationen - Paul-Scherrer-Institut (PSI)
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Berichtigung: Paul-Scherrer-Institut (PSI)
100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)
27. Juni 2023: 100 kV high resolution electron-beam lithography system with a Gaussian beam for the new cleanroom of the Photon Science division of Paul Scherrer Institute (PSI).
Details see in specification PSI-HK67-001 Rev. 2.00 -
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100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)
27. Juni 2023: Système de lithographie par faisceau d'électrons à haute résolution de 100kV avec un faisceau gaussien pour la nouvelle salle blanche de la division Photon Science de l'Institut Paul Scherrer (PSI).
Pour de plus amples détails, voire requirements specifications PSI-HK67-001 Rev. 2.00 -
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100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)
27. Juni 2023: 100 kV hochauflösendes Elektronenstrahllithographiesystem mit Gaußstrahl für den neuen Reinraum der Abteilung Photon Science des Paul Scherrer Instituts (PSI).
Mehr Details in der Anforderungs-Spezifikation PSI-HK67-001 Rev. 2.00
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Entgegennahme von Angebote auf elektronischem Weg
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