Berichtigung 1346785: 100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)

Publiziert am: 27. Juni 2023

Paul-Scherrer-Institut (PSI)

100 kV hochauflösendes Elektronenstrahllithographiesystem mit Gaußstrahl für den neuen Reinraum der Abteilung Photon Science des Paul Scherrer Instituts (PSI).
Mehr Details in der Anforderungs-Spezifikation PSI-HK67-001 Rev. 2.00


Auftraggeber: Dezentrale Bundesverwaltung / öffentlich rechtliche Organisationen
Kategorie: Berichtigung
Sprache: de
Tags:
  • 38000000: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gruppen:
  • H: Health Care
Untergruppen:
  • H-D: Apparate
(gemäss Klassifizierung it-beschaffung.ch)

Kontakt

Paul-Scherrer-Institut (PSI)
OVGA-217
5232 Villigen
Telefon: +41 (0)56 310 2915
E-Mail-Adresse:  
armin.lampart@psi.ch

Nähere Angaben zu den Änderungen auf simap : 1346785 100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)