Berichtigung 1346789: 100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)
Publiziert am: 27. Juni 2023
Paul-Scherrer-Institut (PSI)
Système de lithographie par faisceau d'électrons à haute résolution de 100kV avec un faisceau gaussien pour la nouvelle salle blanche de la division Photon Science de l'Institut Paul Scherrer (PSI). Pour de plus amples détails, voire requirements specifications PSI-HK67-001 Rev. 2.00
| Auftraggeber: |
Dezentrale Bundesverwaltung / öffentlich rechtliche Organisationen
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| Kategorie: | Berichtigung |
| Sprache: | fr |
| Tags: |
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| Gruppen: |
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| Untergruppen: |
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OVGA-217
5232 Villigen
Telefon: +41 (0)56 310 2915
E-Mail-Adresse:
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inkl. Erstellung ISDS-Konzept, Controlling, Governance
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Entgegennahme von Angebote auf elektronischem Weg
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