Zuschlag 1020257: Chemical Vapor Deposition Anlage

Publiziert am: 16. Mai 2018

Universität Basel

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Auftraggeber: Träger kantonaler Aufgaben
Kategorie: Zuschlag
Sprache: de
Tags:
  • 38000000: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gruppen:
  • H: Health Care
Untergruppen:
  • H-D: Apparate
(gemäss Klassifizierung it-beschaffung.ch)
Vergabe: offenes Verfahren
Vorangehende Publikation:

Zuschlagskriterien

Gewichtung Kriterium
70 Technische Anforderungen
30 Angebotspreis

Berücksichtigte Anbieter

Oxford Instruments GmbH, Wiesbaden, DE
CHF 332,242 exkl. MwSt.

Weitere Informationen


Ausschreibung:
Ausschreibungsorgan: Kantonsblatt Basel-Stadt 18/2018www.kantonsblatt.ch
Ausschreibung vom: 03.03.2018
Titel:
Evaluationsdauer: 66 Tage

Datum des Zuschlags:

08.05.2018


Anzahl Angebote:

1


Rechtsmittelbelehrung:

Soweit es sich nicht aus dieser Publikation ergibt, können die Beteiligten innerhalb von fünf Tagen, von der Veröffentlichung im Kantonsblatt Basel-Stadt an gerechnet, verlangen, dass ihnen durch einen weiteren Entscheid eröffnet wird, aus welchen wesentlichen Gründen ihr Angebot nicht berücksichtigt wurde und worin die ausschlaggebenden Merkmale und Vorteile des berücksichtigten Angebotes liegen. Das Begehren ist schriftlich an die Universität Basel, Ressort Finanzen & Controlling, Karsten Fechtig, Petersgraben 35, Postfach 2148, 4001 Basel zu richten. Rekurse sind innerhalb von 10 Tagen, von der Veröffentlichung im Kantonsblatt Basel-Stadt oder von der Zustellung der ergänzenden Begründung an gerechnet, an das Verwaltungsgericht Basel-Stadt, Bäumleingasse 1, 4051 Basel zu richten. Die Rekursschrift muss einen Antrag und dessen Begründung enthalten. Die angefochtene Verfügung ist beizulegen. Die angerufenen Beweismittel sind genau zu bezeichnen und soweit möglich beizulegen.


Zusätzliche Informationen:

-


Kontakt

Universität Basel
Petersplatz 1
4051 Basel
Telefon: 061 207 26 47
E-Mail-Adresse:  
alexander.diezel@unibas.ch

Link und Bestellung Unterlagen auf simap : 1020257 Chemical Vapor Deposition Anlage