Zuschlag 1348773: FIRST_100 kV Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Publiziert am: 6. Juli 2023

ETH Zürich

L'offre choisie a obtenu le plus grand nombre de points et était la plus avantageuse financièrement.


Auftraggeber: Dezentrale Bundesverwaltung / öffentlich rechtliche Organisationen
Kategorie: Zuschlag
Sprache: fr
Tags:
  • 38000000: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gruppen:
  • H: Health Care
Untergruppen:
  • H-D: Apparate
(gemäss Klassifizierung it-beschaffung.ch)
Vergabe: offenes Verfahren
Vorangehende Publikation:
Andere Sprachen:

Zuschlagskriterien

Gewichtung Kriterium
2650 1. Valeur technique
1300 2. Life Cycle Costs (LCC) / Coûts du cycle de vie
100 3. Durabilité écologique
100 4. Disponibilité du service / assistance
100 5. Tests
50 6. Délai de livraison

Berücksichtigte Anbieter

Raith B.V., Best, NL
EUR 1,350,000 exkl. MwSt.

Weitere Informationen


Ausschreibung:
Ausschreibungsorgan: www.simap.ch
Ausschreibung vom: 15.02.2023
Titel:
Evaluationsdauer: 134 Tage

Datum des Zuschlags:

29.06.2023


Anzahl Angebote:

2


Rechtsmittelbelehrung:

Conformément à l'art. 56, al. 1, de la loi fédérale sur les marchés publics (LMP), la présente décision peut être attaquée, dans un délai de 20 jours à compter de sa notification, auprès du Tribunal administratif fédéral, case postale, 9023 Saint-Gall. Présenté en deux exemplaires, le mémoire de recours doit indiquer les conclusions, les motifs et les moyens de preuve et porter la signature de la partie recourante ou de son représentant ; y seront jointes une copie de la présente décision et les pièces invoquées comme moyens de preuve, lorsqu'elles sont disponibles.
Conformément à l'art. 56, al. 2, LMP, les dispositions de la Loi fédérale sur la procédure administrative (PA) relatives à la suspension des délais ne s'appliquent pas.


Zusätzliche Informationen:

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Kontakt

ETH Zürich
Scheuchzerstrasse 68/70
8092 Zürich
E-Mail-Adresse:  
publictender@ethz.ch

Link und Bestellung Unterlagen auf simap : 1348773 FIRST_100 kV Elektronenstrahl-Lithographiesystem