Ausschreibung 1339999: 100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)

Publiziert am: 3. Juni 2023

Paul-Scherrer-Institut (PSI)

Système de lithographie par faisceau d'électrons à haute résolution de 100kV avec un faisceau gaussien pour la nouvelle salle blanche de la division Photon Science de l'Institut Paul Scherrer (PSI).

Pour de plus amples détails, voire requirements specifications PSI-HK67-001 Rev. 2.00


Auftraggeber: Dezentrale Bundesverwaltung / öffentlich rechtliche Organisationen
Kategorie: Ausschreibung
Sprache: fr
Abgabetermin: abgelaufen
Ort:

Zeit für Fragen: abgelaufen
Tags:
  • 38000000: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Gruppen:
  • H: Health Care
Untergruppen:
  • H-D: Apparate
(gemäss Klassifizierung it-beschaffung.ch)

Zeitplan

Folgender Zeitplan wurde aus den simap-Publikationsdaten erstellt:

Datum Ereignis Kommentar
3. Juni 2023 Publikationsdatum
None Ausschreibungsunterlagen verfügbar ab

None

26. Juni 2023 Frist für Fragen

None

14. Juli 2023 Abgabetermin 16:00

2 copies sous forme papier, 2 copies sous forme numérique (clé USB). DélivréVilligen PSI. Le fournisseur est explicitement responsable de la conformité exacte des copies papier et des copies électroniques.En cas de divergences entre la copie papier et la copie électronique, l'ordre suivant s'applique:
1) copie électronique
2) copie papier
L'offre doit être livrée de manière scellée et doit être accompagnée de la mention explicite "Objet de l'offre PSI – ne doit pas êtreouverte".
Lors de l'envoi par la poste ou par messagerie, le fournisseur est responsable de l'arrivée en temps opportun. Les cachets de laposte sont pas décisif.
Alternative:
Saisir l'offre par e-mail à publictenders@psi.ch.
Pour cela, les délais et conditions de forme suivants doivent être respectés:
1) Date limite d'inscription: 14.07.2023, 4:00 p.m.
2) La réception correcte doit être explicitement confirmée par PSI avant le 17.07.2023, 4:00 p.m. au moyen d'un e-mail de réponse
3) Objet: Projet 258404 - High-resolution e-beam lithography system (EBL), offre «nom de l'entreprise»
4) Taille: max. 20 MB / e-mail

17. Juli 2023 Offertöffnung

2 copies sous forme papier, 2 copies sous forme numérique (clé USB). DélivréVilligen PSI. Le fournisseur est explicitement responsable de la conformité exacte des copies papier et des copies électroniques.En cas de divergences entre la copie papier et la copie électronique, l'ordre suivant s'applique:
1) copie électronique
2) copie papier
L'offre doit être livrée de manière scellée et doit être accompagnée de la mention explicite "Objet de l'offre PSI – ne doit pas êtreouverte".
Lors de l'envoi par la poste ou par messagerie, le fournisseur est responsable de l'arrivée en temps opportun. Les cachets de laposte sont pas décisif.
Alternative:
Saisir l'offre par e-mail à publictenders@psi.ch.
Pour cela, les délais et conditions de forme suivants doivent être respectés:
1) Date limite d'inscription: 14.07.2023, 4:00 p.m.
2) La réception correcte doit être explicitement confirmée par PSI avant le 17.07.2023, 4:00 p.m. au moyen d'un e-mail de réponse
3) Objet: Projet 258404 - High-resolution e-beam lithography system (EBL), offre «nom de l'entreprise»
4) Taille: max. 20 MB / e-mail

None Geplanter Projektstart
None Geplantes Projektende

Zuschlagskriterien

Gewichtung Kriterium
30 Prix Pondération voir spécification PSI-HK67-001 Rev. 2.00
55 Conformité avec le chapitre 3 de la Spécification PSI-HK67-001 Rev. 2.00
15 Cohérence des chapitres 1,2,4 et 5 de la Spécification PSI-HK67-001 Rev. 2.00

Zulassungsbedingungen

Bietergemeinschaften:

non approuvé

Eignungskriterien:

siehe Unterlagen

Geforderte Nachweise:

siehe Unterlagen

Zusätzliche Informationen

Voraussetzungen für Anbieter aus Staaten, die nicht dem WTO-Beschaffungsübereinkommen angehören:

non

Geschäftsbedingungen:

Conditions générales (CG) de la Confédération du Septembre
2016, état au Janvier 2021.
Les conditions générales des fournisseurs sont expressément exclues.

Grundsätzliche Anforderungen:

Le pouvoir adjudicateur adjuge des marchés publics pour des prestations en Suisse uniquement à des adjudicatairesquib garantissent le respect des dispositions sur la protection des travailleurs, les conditions de travail et l'égalité de salaire entre hommes et femmes.
Clause d'intégrité
Le soumissionnaire et l'adjudicateur s'engagent à prendre toutes les mesures nécessaires pour éviter la corruption. Ils s'abstiennent en particulier d'offrir ou d'accepter de l'argent ou tout autre avantage. Si le soumissionnaire viole cet engagement, il doi verser une peine conventionnelle à l'adjudicateur. Le montant de cette peine s'élève à 10 % de la valeur du contrat, mais à CHF 3000 au moins par infraction. Le soumissionnaire prend note du fait que tout anquement au devoir d'intégrité entraîne en principe l'annulation de l'adjudication ainsi que la résiliation anticipée du contrat par l'adjudicateur pour juste motif.

Sonstige Angaben:

Le fournisseur doit confirmer par écrit l'acceptation des conditions générales (4.2) et les conditions régissant la
procédure(4.4).

Offizielles Publikationsorgan:

www.simap.ch

Rechtsmittelbelehrung:

Conformément à l'art. 56, al. 1, de la loi fédérale sur les marchés publics (LMP), la présente décision peut être attaquée, dans un délai de 20 jours à compter de sa notification, auprès du Tribunal administratif fédéral, case postale, 9023 Saint-Gall. Présenté en deux exemplaires, le mémoire de recours doit indiquer les conclusions, les motifs et les moyens de preuve et porter la signature de la partie recourante ou de son représentant ; y seront jointes une copie de la présente décision et les pièces invoquées comme moyens de preuve, lorsqu'elles sont disponibles.
Conformément à l'art. 56, al. 2, LMP, les dispositions de la Loi fédérale sur la procédure administrative (PA) relatives à la suspension des délais ne s'appliquent pas.


Kontakt

Paul-Scherrer-Institut (PSI)
OVGA-217
5232 Villigen
Telefon: +41 (0)56 310 2915
E-Mail-Adresse:  
armin.lampart@psi.ch

Link und Bestellung Unterlagen auf simap : 1339999 100 kV high-resolution e-beam lithography system (EBL)